济南市历下区丽山生物制药生产基地B2栋南楼1-3层提升改造工程 全过程工程咨询采购成交公示

山东省建设工程招标中心有限公司受山东创世威纳科技有限公司委托，开展关于济南市历下区丽山生物制药生产基地B2栋南楼1-3层提升改造工程全过程工程咨询项目采购，现已具备采购条件，项目资金来源已落实，采购人为山东创世威纳科技有限公司，现对该项目以综合比选形式进行采购。

ITO 是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡，ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜，通常有两个性能指标：电阻率和透光率。

PVD基本方法：真空蒸发、溅射 、离子镀（空心阴离子镀、热阴离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀），以下介绍几种常用的方法。

常用真空术语：1.标准环境条件 standard ambient condition： 温度为20℃，相对湿度为65%，大气压力为101325Pa=1013.25mbar=760Torr。

溅射镀膜是指在真空室中，利用荷能粒子轰击靶材表面，通过粒子动量传递打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基体上形成薄膜的技术。溅射镀膜技术具有可实现大面积快速沉积，薄膜与基体结合力好，溅射密度高、针孔少，膜层可控性和重复性好等优点，而且物质都可以进行溅射，因而近年来发展迅速，应用广泛。