山东创世威纳科技有限公司
Shandong Chuangshiweina Technology Co., LTD.
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选择创世威纳的4大优势
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01 多年专注 经验丰富
从事微细加工设备、半导体工艺设备研发与销售的高新技术企业。
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02 紧跟世界 技术
采用国际上的“设备与工艺相结合”模式进行研发、生产与销售。
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03 领域广泛 设施齐全
产品定位于高新技术发展的基础产业，可提供全套设备和单一设备。
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04 稳定性强 安全可靠
良好的售前服务平台、完善的售后服务体系、广泛的技术支持能力。
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工程咨询采购公告
2026-01-22
山东省建设工程招标中心有限公司受山东创世威纳科技有限公司委托，开展关于济南市历下区丽山生物制药生产基地B2栋南楼1-3层提升改造工程全过程工程咨询项目采购，现已具备采购条件，项目资金来源已落实，采购人为山东创世威纳科技有限公司，现对该项目以综合比选形式进行采购。
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常用真空术语
2019-04-29
常用真空术语：1.标准环境条件 standard ambient condition： 温度为20℃，相对湿度为65%，大气压力为101325Pa=1013.25mbar=760Torr。
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溅射沉积技术
2019-04-29
溅射镀膜是指在真空室中，利用荷能粒子轰击靶材表面，通过粒子动量传递打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基体上形成薄膜的技术。溅射镀膜技术具有可实现大面积快速沉积，薄膜与基体结合力好，溅射密度高、针孔少，膜层可控性和重复性好等优点，而且物质都可以进行溅射，因而近年来发展迅速，应用广泛。
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5G时代来临，不锈钢中框加PVD方案将成新的趋势
2019-04-29
随着5G时代的临近，行业内公司纷纷布局产业链相关节点。行业相关人表示，看好金属中框的产业节点优势，行业从“金属外壳+金属中框”向未来“金属中框+双面玻璃”的产业发展过程中，将需要7系铝、不锈钢甚至钛合金等一类加工技术壁垒更高、价值更高的金属中框，以保持机身的强度和对大屏的支撑，这将显著提高金属中框产业价…
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HIPIMS技术简介
2019-04-29
磁控溅射技术广泛应用于薄膜制备领域，装饰镀膜应用领域和工具镀膜应用都比较常见，但磁控溅射处理技术有很多的局限性，例如磁控溅射靶功率密度受靶热负荷的限制，即当溅射电流较大时，过多的正离子对靶进行轰击可能使溅射靶过热而烧损，溅射的能量有限金属离化率不高等问题。近年来国内外发展起来了一种高功率脉冲磁控溅射…
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PVD在显示屏行业现状
2019-04-29
PVD（Physical Vapor Deposition）技术，其实是制备薄膜材料的主要技术之一。用于制备薄膜材料的物质被称为PVD镀膜材料。经过多年发展，PVD 镀膜技术被广泛用于应用于电子、光学、机械、建筑、材料等领域。
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平衡磁控溅射和非平衡磁控溅射
2019-04-29
平衡磁控溅射即传统的磁控溅射，是在阴靶材背后放置芯部与外环磁场强度相等或相近的永磁体或电磁线圈，在靶材表面形成与电场方向垂直的磁场。沉积室充入一定量的工作气体，通常为Ar，在高压作用下Ar 原了电离成为Ar+离子和电子，产生辉光放电，Ar+ 离子经电场加速轰击靶材，溅射出靶材原子、离子和二次电子等。
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